武汉无尘净化工程中的光学微电子净化工程之定义为将一定空间范围内之空气中的微尘粒子、有害空气、细菌等之污染物排除，并将室内之温湿度、洁净度、室内压力、气流速度与气流分布、噪音震动及照明、静电控制在某一需求范围内，而所给于特别设计之密闭空间。
　　光学微电子净化工程亦名无尘室或清净室，目前已是半导体、精密制造、液晶制造、光学制造、线路板制造和生物化学、医药、食品制造等行业不可或缺的重要设施。近几年来，由于技术之创新发展，对于产品的高精密度化、细小型化之需求更为迫切，如超大型积体电路之研究制造，已成为世界各国在科技发展上极为重视的项目，而我公司的设计理念及施工技术在行业中则处于领先地位。
　　光学微电子净化工程一般包括：
　　1、 洁净生产区
　　2、 洁净辅助间（包括人员净化用房、物料净化用室和部分生活用室等）
　　3、 管理区（包括办公、值班、管理和休息等）
　　4、 设备区（包括净化空调系统应用、电气用房、高纯水和高纯气用房、冷热设备用房）
　　光学微电子净化工程净化原理
　　气流→初效净化→空调→中效净化→风机送风→管道→高效净化风口→吹入房间→带走尘埃细菌等颗粒 → 回风百叶窗→初效净化 重复以上过程，即可达到净化目的。
　　光学微电子净化工程净化参数：
　　换气次数：100000级≥15次；10000级≥20次；1000≥30次。压差：主车间对相邻房间≥5Pa
　　平均风速：10级、100级0.3——0.5m/s；温度 冬季＞16℃；夏季 ＜26℃；波动±2℃。
　　温度45——65％；GMP粉剂车间湿度在50％左右为宜；电子车间湿度略高以免产生静电。
　　噪声≤65dB（A）；新风补充量是总送风量的10％——30％；照度300LX。